Regular Members

Shaanxi Innovation Metall Technologie Co., Ltd.

Produkte
  • N/A
Suche
 
Freunde Links
Lieferanten-Homepage > Produkte > Zirkoniumziel sputtern
Zirkoniumziel sputtern
Klicken Sie auf das Bild, um die Grafik zu überprüfen
Produkt: Ansicht zählen: 66Zirkoniumziel sputtern 
Einzelpreis: Negotiable
Min beträgt:
Menge:
Lieferfrist: Consignment Deadline days
Verfallsdatum: Long Effective
Letztes Update: 2024-12-13 00:04
  enquiry
Detailliert

Das Zirkoniumziel ist ein Material, das im PVD -Prozess (Physical Dampor Deposition) verwendet wird und normalerweise zum Herstellen von dünnen Filmen verwendet wird. Zirkonium (chemisches Symbol ZR) ist ein Übergangsmetall mit ausgezeichneter Korrosionsbeständigkeit, hohem Schmelzpunkt und guten mechanischen Eigenschaften. Zirkoniumziele werden in Halbleitern, optischen Beschichtungen, dekorativen Beschichtungen und funktionellen Filmen häufig verwendet.

 

Schmelzpunkt: 1852 Grad
Siedepunkt: 4400 Grad
Dichte: 6,5 g/cm³
Spezifikationen: Flaches Ziel/rundes Ziel
Implementierungsstandard: ASTM B550 GB/T 8769-2010 GB/T 26314-2010

 

Hauptantragsbereiche
1. Semiconductor Manufacturing: Zirkoniumziele werden verwendet, um eine hohe Dielektrizitätskonstante (Hoch-K) -Filme wie Zirkoniumoxid (Zro₂) für Dielektrikum von Transistor-Gate abzulegen.
2. Optische Beschichtungen: Zirkoniumfilme haben einen hohen Brechungsindex und gute optische Eigenschaften und werden häufig in Anti-Reflexionsfilmen oder reflektierenden Filmen für optische Geräte und Linsen verwendet.
3.. Dekorative Beschichtung: Zirkoniumziele können verwendet werden, um kräftige resistente und korrosionsresistente dekorative Beschichtungen wie Uhren, Schmuck usw. zuzubereiten.
4. Funktionelle Dünnfilme: Zirkonium -Dünnfilme können auch zur Herstellung von Brennstoffzellen, Sensoren und Katalysatoren verwendet werden.
Eigenschaften von Zirkoniumzielen
Hohe Reinheit: Die Reinheit von Zirkoniumzielen ist normalerweise erforderlich, um mehr als 99,9% zu erreichen, um die Leistung des Films zu gewährleisten.
Hohe Dichte: Das Ziel erfordert eine hohe Dichte, um die Partikelerzeugung während des Sputterns zu verringern.
Gute Gleichmäßigkeit: Die chemische Zusammensetzung und Mikrostruktur des Ziels müssen einheitlich sein, um die Konsistenz des Films zu gewährleisten.
Vorbereitungsprozess
Die Herstellung von Zirkoniumzielen enthält normalerweise die folgenden Schritte:
1. Schmelzen: Bereiten Sie Hochpuritäts-Zirkonium-Pergots durch Vakuumbogenschmelzen oder Elektronenstrahlschmelzen vor.
2. Schmieden und Rollen: Verbesserung der Mikrostruktur und der mechanischen Eigenschaften des Materials durch heiße Verarbeitung.
3.. Bearbeitung: Verarbeiten Sie das Material in eine Form und Größe, die für Sputtergeräte geeignet ist.
4. Reinigung und Verpackung: Stellen Sie sicher, dass die Zieloberfläche sauber ist, um Kontaminationen zu vermeiden.

http://de.sx-yntmetal.com/

Anfrage-Liste